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基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(引言+實驗)
2020-05-18
氧化銦錫(ITO)導電膜具有電阻率低、透光性好、耐高溫等優(yōu)點,在光電領域具有重要應用。現(xiàn)有加工方法得到的ITO 電極尺寸...
EVG為扇出晶圓級封裝推出突破性的低溫激光脫膠解決方案
下一代激光解鍵合解決方案,該解決方案可實現(xiàn)高產(chǎn)量,低成本擁有成本(CoO )室溫剝離,用于超薄和堆疊式扇出封裝。新型激光...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(封裝可靠性)
2020-05-15
FC 封裝通過芯片凸點將芯片和基板鍵合在一起。一方面,F(xiàn)C 封裝體具有種類繁多的材料,芯片、凸點和基板中不同材料之間的性...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(底填充工藝)
為了提高 FC 組件的封裝可靠性,必須進行底填充。底填充可以有 效的緩 解芯片、基板和焊料三者之間的 CTE 不匹配,增...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(基板技術)
2020-05-14
FC 技術發(fā)明并發(fā)展的過程中,陶瓷基板一直在其中扮演著重要角色。但是,陶瓷基板成本較高。為了降低成本,近年來人們致力于提...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(凸點工藝)
芯片凸點是 FC 互連中的關鍵組成部分之一,具有在芯片與基板間形成電連接、形成芯片與基板間的結構連接以及為芯片提供散熱途...
在微系統(tǒng)集成中使用的倒裝芯片工藝技術(簡介)
2020-05-13
倒裝芯片 ( Flip Chip,F(xiàn)C) 技術是一種應用廣 泛的集成電路電子封裝技術。隨著電子產(chǎn)品不斷向小型化和多...
EVG納米壓印技術用于制作3D光學納米結構
該聯(lián)合解決方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造(SNM)”項目中得到證明,該聯(lián)合解決方案涉及...
中國半導體材料邁向中高端
2020-05-12
半導體材料是半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎,它融合了當代眾多學科的先進成果,在半導體制造技術不斷升級和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展中扮演著重...
EVG突破用于半導體高/級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙
EV Group(EVG)今 天推出了IQ Aligner NT,它是針對大批量先進封裝應用的最 新、最 先進的自動掩模...
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