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EVG納米壓印技術(shù)用于制作3D光學(xué)納米結(jié)構(gòu)

發(fā)布時(shí)間:2020-05-13

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       EV Group(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶片鍵合和光刻設(shè)備光刻機(jī)價(jià)格的領(lǐng)先供應(yīng)商,而新穎的納米光刻工具制造商SwissLitho AG今天宣布一種聯(lián)合解決方案,可以生產(chǎn)最小到單納米級(jí)的3D結(jié)構(gòu)。該聯(lián)合解決方案最初在由歐盟第七框架計(jì)劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造(SNM)”項(xiàng)目中得到證明,該聯(lián)合解決方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng),以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻(NIL)和EVG'

目標(biāo)應(yīng)用
       EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo),以開(kāi)發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件,以支持光子學(xué),數(shù)據(jù)通信,增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR / VR)和其他應(yīng)用,并有可能擴(kuò)展到生物技術(shù),納米流體技術(shù)和其他納米技術(shù)應(yīng)用。

作為聯(lián)合解決方案的一部分,SwissLitho的NanoFrazor系統(tǒng)將用于創(chuàng)建壓印母版。與傳統(tǒng)方法(包括電子束(電子束)和灰度光刻)相比,該新技術(shù)具有以無(wú)與倫比的精度打印3D結(jié)構(gòu)的獨(dú)特能力。然后,將使用EVG的HERCULES NIL系統(tǒng),通過(guò)該公司專(zhuān)有的大面積納米壓印SmartNIL納米壓印技術(shù),以高成本效益,高成本效益地創(chuàng)建工作模板。

       EV Group公司技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士指出:“ SwissLitho的NanoFrazor解決方案與EVG的SmartNIL納米壓印技術(shù)高度互補(bǔ)。我們可以共同為光子學(xué)和其他涉及3D結(jié)構(gòu)圖案的應(yīng)用提供完整的NIL納米壓印解決方案,為兩家公司提供了巨大的機(jī)會(huì)為了擴(kuò)大我們的客戶(hù)群和市場(chǎng)范圍,我們的NILPhotonics®能力中心將成為對(duì)此聯(lián)合解決方案感興趣的客戶(hù)的第一聯(lián)系點(diǎn),我們將在此提供可行性研究,演示和中試生產(chǎn)。

       技術(shù)的仔細(xì)研究NanoFrazor背后的技術(shù)是熱掃描探針光刻技術(shù)光刻機(jī)價(jià)格,該技術(shù)是在蘇黎世的IBM Research發(fā)明的,并被SwissLitho AG收購(gòu)。這種無(wú)掩膜的直接寫(xiě)入光刻方法涉及在圖案化之前將獨(dú)特的熱敏抗蝕劑旋涂到樣品表面上。然后使用加熱的超銳利尖端來(lái)分解和蒸發(fā)抗蝕劑,同時(shí)檢查書(shū)寫(xiě)的納米結(jié)構(gòu)。然后可以使用剝離,蝕刻,電鍍,模制或其他方法將所得的任意抗蝕劑圖案轉(zhuǎn)移到幾乎任何其他材料中。

       SwissLitho首席執(zhí)行官Felix Holzner博士說(shuō):“我們開(kāi)發(fā)了NanoFrazor產(chǎn)品線(xiàn),以提供一種高性能,價(jià)格合理的替代產(chǎn)品,并擴(kuò)展了昂貴的電子束光刻系統(tǒng)。光刻機(jī)價(jià)格” “該技術(shù)允許一步制造具有多個(gè)'級(jí)別'的母版。特別是,與傳統(tǒng)的電子束或灰度光刻方法相比,具有納米精度的3D結(jié)構(gòu)可以更容易地制造,并且保真度更高。我們期待著與客戶(hù)合作,將我們的技術(shù)與EVG在奧地利NILPhotonics納米壓印技術(shù)中心的成功SmartNIL納米壓印工藝相結(jié)合?!?/span>

納米壓印制作3D光學(xué)結(jié)構(gòu)

       HERCULES NIL納米壓印設(shè)備將EVG在NIL納米壓印,抗蝕劑處理和大批量制造解決方案方面的廣泛專(zhuān)業(yè)知識(shí)結(jié)合到單個(gè)集成系統(tǒng)中,該系統(tǒng)可為200毫米晶圓提供高達(dá)40 wph的吞吐量。該系統(tǒng)的可配置模塊化平臺(tái)可容納多種壓印材料和結(jié)構(gòu)尺寸,從而使客戶(hù)在滿(mǎn)足其制造需求時(shí)具有更大的靈活性。此外,其制造多次使用的軟郵票的能力有助于延長(zhǎng)原版烙印模板的使用壽命。

       使用SwissLitho的NanoFrazor制造的3D計(jì)算機(jī)生成的全息圖的納米壓印圖章的形貌圖像。使用EV Group的HERCULES®NIL納米壓印光刻系統(tǒng)光刻機(jī)價(jià)格,此類(lèi)印章可用于大量復(fù)制3D結(jié)構(gòu)。

關(guān)于SwissLitho

       SwissLitho是一家屢獲殊榮的初創(chuàng)公司,成立于2012年,其愿景是徹底改變納米制造。該公司開(kāi)發(fā),制造和銷(xiāo)售具有高分辨率和獨(dú)特功能(例如3D圖案化和原位計(jì)量)的新型無(wú)掩模納米光刻技術(shù),該技術(shù)具有取代和擴(kuò)展電子束光刻等傳統(tǒng)圖案化技術(shù)的潛力。客戶(hù)使用SwissLitho獨(dú)特的NanoFrazor工具來(lái)制造新穎的電,光,磁和生物納米設(shè)備,而這在以前是無(wú)法制造的。有關(guān)公司及其產(chǎn)品的更多信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)www.swisslitho.com。

關(guān)于EV集團(tuán)(EVG)

       EV Group(EVG)是制造半導(dǎo)體,微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),化合物半導(dǎo)體,功率器件和納米技術(shù)器件的設(shè)備和工藝解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合,薄晶圓處理,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計(jì)量設(shè)備光刻機(jī)價(jià)格,以及光刻膠涂布機(jī),清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年,為全球范圍內(nèi)的精致的全球客戶(hù)和合作伙伴提供服務(wù)并提供支持。

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