EVG突破用于半導(dǎo)體高/級(jí)封裝的掩模對(duì)準(zhǔn)光刻技術(shù)中的速度和精度障礙

       面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合和光刻設(shè)備（光刻機(jī)價(jià)格）的領(lǐng)先供應(yīng)商EV Group（EVG）今天推出了IQ Aligner NT，它是針對(duì)大批量先進(jìn)封裝應(yīng)用的最新，最先進(jìn)的自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件，新的晶圓處理硬件，可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓完全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件，從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比，對(duì)準(zhǔn)精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應(yīng)用的最苛刻要求，同時(shí)與競(jìng)爭(zhēng)系統(tǒng)相比，擁有成本降低了30％。

       IQ Aligner NT非常適合各種高級(jí)封裝類型，包括晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝（WLCSP），扇出晶圓級(jí)封裝（FOWLP），3D-IC /直通硅通孔（TSV），2.5D中介層和倒裝芯片。

需要新的光刻功能
       半導(dǎo)體高級(jí)封裝正在不斷發(fā)展，以使新型器件能夠以更低的功能成本增加功能。結(jié)果，現(xiàn)在需要光刻（光刻機(jī)價(jià)格）的新發(fā)展來(lái)滿足先進(jìn)封裝市場(chǎng)的獨(dú)特需求。這些需求包括：

• 極高的對(duì)準(zhǔn)精度
• 管理晶圓翹曲并解決晶圓和掩模布局的尺寸不匹配問(wèn)題，以實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的覆蓋
• 充分暴露后端處理中發(fā)現(xiàn)的較厚的抗蝕劑和介電層
• 更高的分辨率可解決由于器件縮放而導(dǎo)致的凸塊和互連縮小
• 同時(shí)，所有這些需求都必須在具有高成本效益和高生產(chǎn)率的光刻工具平臺(tái)中得到滿足。

       EV Group執(zhí)行技術(shù)總監(jiān)Paul Lindner表示：“憑借超過(guò)三十年的光刻經(jīng)驗(yàn)，EVG借助我們的新型IQ Aligner NT將掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)的領(lǐng)域推向了新的境界?！?nbsp;“我們的光刻解決方案套件的最新添加提供了前所未有的吞吐量，準(zhǔn)確性和擁有成本性能水平，這反過(guò)來(lái)又為EVG開(kāi)辟了各種新的市場(chǎng)機(jī)會(huì)。我們期待與客戶緊密合作，以滿足他們至關(guān)重要的高級(jí)封裝光刻需求?！?/span>

       IQ Aligner NT進(jìn)行了多種改進(jìn)，以實(shí)現(xiàn)行業(yè)領(lǐng)先的掩模對(duì)準(zhǔn)性能，以實(shí)現(xiàn)高級(jí)封裝光刻（光刻機(jī)價(jià)格）：

• 與EVG的上一代IQ Aligner相比，高功率光學(xué)器件的照明強(qiáng)度提高了3倍，使其成為曝光厚抗蝕劑和與處理凸點(diǎn)，支柱和其他高形貌特征相關(guān)的其他膜的理想選擇
• 在300毫米基板上進(jìn)行完全的明場(chǎng)掩模移動(dòng)，從而在暗場(chǎng)掩模對(duì)準(zhǔn)和圖案定位方面提供了最高的工藝兼容性和靈活性
• 雙基板尺寸概念無(wú)需進(jìn)行任何重新組裝工作，為兩種不同尺寸的晶圓提供了快速，便捷的快速橋接工具
• 支持全自動(dòng)以及半自動(dòng)/手動(dòng)晶圓裝載操作，以實(shí)現(xiàn)最大的靈活性
• 基于最新fab軟件標(biāo)準(zhǔn)和協(xié)議的最新EVG CIMFramework系統(tǒng)軟件

無(wú)與倫比的準(zhǔn)確性和生產(chǎn)率性能
       IQ Aligner NT將最先進(jìn)的光學(xué)和機(jī)械工程技術(shù)與優(yōu)化的工具軟件相結(jié)合，使產(chǎn)量提高了兩倍（第一次打印> 200 wph，頂部對(duì)齊> 160 wph）以及對(duì)準(zhǔn)精度提高了兩倍（250nm 3-sigma）。由于嚴(yán)格的對(duì)齊規(guī)范，客戶還可以提高高端和高帶寬包裝產(chǎn)品的良率。
       此外，EVG將在3月14日至16日在中國(guó)上海的上海新國(guó)際博覽中心舉行的SEMICON China展覽會(huì)上展示IQ Aligner NT。有興趣了解有關(guān)IQ Aligner NT以及EVG先進(jìn)封裝的光刻和晶圓鍵合解決方案套件的更多知識(shí)的與會(huì)者，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)公司的＃4663展位。

關(guān)于EV集團(tuán)（EVG）

       EV Group（EVG）是制造半導(dǎo)體，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS），化合物半導(dǎo)體，功率器件和納米技術(shù)器件的設(shè)備和工藝解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合，薄晶圓處理，光刻（光刻機(jī)價(jià)格）/納米壓印光刻（NIL）和計(jì)量設(shè)備，以及光刻膠涂布機(jī)，清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年，為全球范圍內(nèi)的精致的全球客戶和合作伙伴提供服務(wù)并提供支持。