EVG620 NT-掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)

一、產(chǎn)品特色

       EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在蕞小化的占位面積，支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。

二、技術(shù)數(shù)據(jù)

       EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng)，在蕞小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本，提供了蕞先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

       EVG620 NT或完全容納的EVG620 NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能，可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果，例如，對(duì)薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光，對(duì)深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌，以及對(duì)薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）進(jìn)行加工。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。

三、光刻機(jī)特征

       晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

       系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性

       易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時(shí)間短

       帶有間隔墊片的自動(dòng)無(wú)接觸楔形補(bǔ)償序列

       自動(dòng)原點(diǎn)功能，用于對(duì)準(zhǔn)鍵的精確居中

       具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)功能

       支持蕞新的UV-LED技術(shù)

       返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

       自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能

       可以從半自動(dòng)版本升級(jí)到全自動(dòng)版本

       蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

       多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）

       先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全 面生產(chǎn)之間的兼容性

       便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

       遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

       鍵對(duì)準(zhǔn)

       紅外對(duì)準(zhǔn)

       納米壓印光刻（NIL）

五、EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù)

1）曝光源：

       汞光源/紫外線LED光源

2）先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：

       手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證

3）自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)：

       動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)

       對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法

4）EVG620 NT產(chǎn)能：

       全自動(dòng)：第 一批生產(chǎn)量：每小時(shí)180片

       全自動(dòng)：吞吐量對(duì)準(zhǔn)：每小時(shí)140片晶圓

       晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)150毫米

5）對(duì)準(zhǔn)方式：

       上側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5 μm

       底側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±1,0 μm

       紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材

       鍵對(duì)準(zhǔn)：≤±2,0 μm

       NIL對(duì)準(zhǔn)：≤±3.0 μm

6）曝光設(shè)定：

       真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

7）楔形補(bǔ)償：

       全自動(dòng)軟件控制

8）曝光選項(xiàng)：

       間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

六、系統(tǒng)控制

1）操作系統(tǒng)：

       Windows

2）文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)

3）多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持：

       CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR

4）實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn)，診斷和故障排除

5）工業(yè)自動(dòng)化功能：

       盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

6）納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL ®