F10-HCFilmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x

Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x F10-HC

以F20平臺(tái)為基礎(chǔ)所發(fā)展的F10-HC薄膜測(cè)量系統(tǒng)，能夠快速的分析薄膜的反射光譜資料并提供測(cè)量厚度，加上F10-HC軟件*的先進(jìn)模擬演算法的設(shè)計(jì)，能夠在厚膜中測(cè)量單層與多層(例如：底漆或硬涂層等)。

前所未見(jiàn)的簡(jiǎn)易操作界面

現(xiàn)在，具有新樣板模式功能的F10-HC將更容易使用，這個(gè)功能允許用戶(hù)匯入樣品的影像(請(qǐng)參考下頁(yè))，并直接在影像上定義測(cè)量位置。系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)通知使用者本次測(cè)量結(jié)果是否有效，并將測(cè)量的結(jié)果顯示在匯入的影像上讓用戶(hù)分析。

不需要手動(dòng)基準(zhǔn)校正

F10-HC現(xiàn)在能夠執(zhí)行自動(dòng)化基準(zhǔn)矯正以及設(shè)置自己的積分時(shí)間這個(gè)創(chuàng)新的方法不需要頻繁的執(zhí)行基準(zhǔn)矯正就可以讓使用者立即的執(zhí)行樣本的測(cè)量。

背面反射干擾

背面反射干擾對(duì)厚度測(cè)量而言是一個(gè)光學(xué)技術(shù)的挑戰(zhàn)，具有F10-HC系統(tǒng)的*接觸式探頭能將背面反射干擾的影響小化，使用者能以較高的準(zhǔn)確度來(lái)測(cè)量涂層厚度。