EVG720 系統(tǒng)利用 EVG 創(chuàng)新的 SmartNIL 技術(shù)和材料專業(yè)知識,實現(xiàn)微米級和納米級結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制造。EVG720 系統(tǒng)采用 SmartNIL 技術(shù),能夠在大面積上打印小至 40 nm* 的納米結(jié)構(gòu),具有較大的吞吐量和較低的擁有成本,非常適合下一代微流控和光子器件(如衍射光學(xué)元件 (DOE))的批量生產(chǎn)。
*分辨率取決于工藝和模板
特點
· 具有復(fù)制保真度的批量驗證印記技術(shù)
· 成熟的SmartNIL技術(shù)與多用途聚合物沖壓技術(shù)?
· 集成壓印,UV固化脫模,和工作印章制作
· 自動磁帶到磁帶處理加上半自動化的研發(fā)模式
· 可選的頂部對齊
· 可選的迷你環(huán)境
· 開放平臺的所有商業(yè)可用的印記材料
· 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性
· 系統(tǒng)外殼,最佳的過程穩(wěn)定性和可靠性
技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(襯底尺寸):75至150毫米
分辨率:≤ 40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
過程支持:SmartNIL?
曝光源:大功率LED(i-線)> 40mW/cm2
對齊:可選頂部對中
自動分離:支持
迷你環(huán)境和氣候控制:可選
工作印章制作:支持
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