EVG610 紫外光納米壓印機(jī)

1. 主要應(yīng)用

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。

2. 簡(jiǎn)介

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機(jī)制。EV Group專有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)設(shè)計(jì)既支持軟印章也支持硬印章。

3. 特征

1) 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

2) 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

3) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

4) 電動(dòng)和配方控制的曝光間隙

5) 支持蕞新的UV-LED技術(shù)

6) 蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

7) 分步流程指導(dǎo)

8) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持

9) 多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）

10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

11) 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版