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Photomask Blanks缺陷檢查裝置 LODAS? – AI50/100

Photomask Blanks缺陷檢查裝置 LODAS? – AI50/100

列真株式會(huì)社自創(chuàng)業(yè)以來，秉承“挑戰(zhàn)"、“創(chuàng)造"、“誠實(shí)"的經(jīng)營理念，為顧客提供可靠、可信的產(chǎn)品和服務(wù)。運(yùn)用激光掃描技術(shù)，專門制造、銷售半導(dǎo)體材料表面及內(nèi)部檢查、石英玻璃表面檢查等檢查裝置。


特征：

  • 半導(dǎo)體用Photomask Blanks的出廠檢查、工藝評價(jià)

  • 用微分干涉顯微鏡分析缺陷

  • 檢查對象：Photomask Substrate、Cr、Resist、MoSi

  • 檢查項(xiàng)目：顆粒、內(nèi)部缺陷（Option）

  • 檢查靈敏度：PDM缺陷尺寸0.1μm（AI00）

列真公司檢查裝置的維護(hù)、修理

  • 定期支持裝置安裝完成后的性能維持。

  • 24小時(shí)電話對應(yīng)，全年無休的安心支持。

  • 認(rèn)真對待客戶新的要求。

  • 召開技術(shù)研討會(huì)和充實(shí)各種手冊，讓顧客能夠自行維護(hù)和更換零件。

  • 提供HDD、激光光源等消耗品的免費(fèi)診斷服務(wù)。

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