產(chǎn)品中心

PRODUCT CENTER

我是分類列表


首頁 > 產(chǎn)品中心 > EVG光刻機(jī) > 光刻膠處理系統(tǒng)

EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)

EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)

??EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)基本功能:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝。

一、 簡介

??EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)在單室設(shè)計(jì)上可以滿足研發(fā)工作,與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)完全兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進(jìn)的OmniSpray涂層技術(shù),在3D結(jié)構(gòu)晶圓上實(shí)現(xiàn)光刻膠或聚合物的共形層,用于互連技術(shù)。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗,同時(shí)改善了均勻性并防止了擴(kuò)散。

二、EVG101勻膠機(jī)技術(shù)參數(shù):

??1)晶圓尺寸:高達(dá)300mm(12寸)

??2)支持模式:旋涂/ OmniSpray®/生長

??3)晶圓支撐模式:單臂/雙EE/邊緣/翻動(dòng)

??4)分配模式:

??- 各種分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的各種粘度

??- 恒壓分配系統(tǒng)

??- EBR / BSR /預(yù)濕/碗洗/液體灌注

EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)噴涂結(jié)果

圖1  噴涂結(jié)果

三、EVG101勻膠機(jī)特征:

??1)晶圓尺寸可達(dá)300 mm

??2)自動(dòng)旋涂或噴涂或使用手動(dòng)晶圓裝載/卸載進(jìn)行顯影

??3)利用從研究到生產(chǎn)的快速簡便的過程轉(zhuǎn)換

??4)成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件

??5)注射器分配系統(tǒng),用于利用小的光刻膠體積,包括高粘度光刻膠

??6)占地面積小,同時(shí)保持高水平的個(gè)人和過程安全性

??7)多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

??8)選項(xiàng):

??- 采用OmniSpray®涂層技術(shù)均勻涂覆晶圓的高表面形貌

??- 用于后續(xù)鍵合工藝的蠟和環(huán)氧樹脂涂層

??- 旋涂玻璃(SOG)涂層

EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)噴涂結(jié)構(gòu)

圖2  噴涂形成的金屬結(jié)構(gòu)


未經(jīng)許可不得復(fù)制、轉(zhuǎn)載或摘編,違者必究!