FR-Mic：全自動帶顯微鏡多點測量膜厚儀

膜厚儀 FR-Mic 是一款快速、準確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案，可以將光斑縮小到幾個微米，進而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專用計算機控制的 XY 工作臺，使其快速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。

Thetametrisis膜厚儀

Thetametrisis利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進行測量。

【相關(guān)應(yīng)用】

高校 & 研究所實驗室
半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物，硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測量應(yīng)用
數(shù)據(jù)存儲
陽極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生物醫(yī)學(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應(yīng)用

【特點】

實時光譜測量
薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量，厚度映射
使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機進行成像 (所視即所測)

【技術(shù)參數(shù)】

型號		UV/VIS	UV/NIR-EXT	UV/NIR-HR	DUV/NIR	VIS/NIR	DVIS/NIR	NIR	NIR-N2
光譜波長范圍(nm)		200–850	200–1020	200-1100	200–1700	370–1020	370–1700	900–1700	900-1050
光譜儀像素		3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512	3648
膜厚測量范圍	5X- VIS/NIR	4nm-60um	4nm-70um	4nm-90um	4nm-150um	15nm-90um	15nm-150um	100nm-150um	4um-1mm(SiO2)
	10X- UV/VIS/NIR	4nm-50um	4nm-60um	4nm-80um	4nm-130um	15nm-80um	15nm-130um	100nm-130um	4um-400um(Si)
	15X- UV/NIR	4nm-40um	4nm-50um	4nm-50um	4nm-120um	-	-
	20X- UV/VIS/NIR	4nm-25um	4nm-30um	4nm-30um	4nm-50um	15nm-30um	15nm-50um	100nm-50um
	40X- UV/NIR	4nm-4um	4nm-4um	4nm-5um	4nm-6um	-	-
	50X- VIS/NIR	-	-	-	-	15nm-5um	15nm-5um	100nm-5um
測量n&k蕞小厚度		50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準度 3.		0.1% or 1nm				0.2% or 2nm		50nm or 0.2%
精度 4..		0.02nm				0.02nm		5nm
重覆性 5.		0.05nm				0.05nm		5nm
光源		氘燈&鹵素燈(internal)				鹵素燈(internal)10000 小時 (MTBF)
材料數(shù)據(jù)庫		>650內(nèi)建材料數(shù)據(jù)庫