FR-Mic：全自動(dòng)帶顯微鏡多點(diǎn)測(cè)量膜厚儀

膜厚儀 FR-Mic 是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案，可以將光斑縮小到幾個(gè)微米，進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制的 XY 工作臺(tái)，使其快速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性。也可以搭配自動(dòng)平臺(tái)測(cè)量 400x400mm 大小樣品。

Thetametrisis膜厚儀

Thetametrisis利用 FR-Mic，通過(guò)紫外/ 可見(jiàn)/ 近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學(xué)常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。

【相關(guān)應(yīng)用】

高校 & 研究所實(shí)驗(yàn)室
半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物，硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測(cè)量應(yīng)用
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
陽(yáng)極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應(yīng)用

【特點(diǎn)】

實(shí)時(shí)光譜測(cè)量
薄膜厚度，光學(xué)特性，非均勻性測(cè)量，厚度映射
使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像 (所視即所測(cè))

【技術(shù)參數(shù)】

型號(hào)		UV/VIS	UV/NIR-EXT	UV/NIR-HR	DUV/NIR	VIS/NIR	DVIS/NIR	NIR	NIR-N2
光譜波長(zhǎng)范圍(nm)		200–850	200–1020	200-1100	200–1700	370–1020	370–1700	900–1700	900-1050
光譜儀像素		3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512	3648
膜厚測(cè)量范圍	5X- VIS/NIR	4nm-60um	4nm-70um	4nm-90um	4nm-150um	15nm-90um	15nm-150um	100nm-150um	4um-1mm(SiO2)
	10X- UV/VIS/NIR	4nm-50um	4nm-60um	4nm-80um	4nm-130um	15nm-80um	15nm-130um	100nm-130um	4um-400um(Si)
	15X- UV/NIR	4nm-40um	4nm-50um	4nm-50um	4nm-120um	-	-
	20X- UV/VIS/NIR	4nm-25um	4nm-30um	4nm-30um	4nm-50um	15nm-30um	15nm-50um	100nm-50um
	40X- UV/NIR	4nm-4um	4nm-4um	4nm-5um	4nm-6um	-	-
	50X- VIS/NIR	-	-	-	-	15nm-5um	15nm-5um	100nm-5um
測(cè)量n&k蕞小厚度		50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準(zhǔn)度 3.		0.1% or 1nm				0.2% or 2nm		50nm or 0.2%
精度 4..		0.02nm				0.02nm		5nm
重覆性 5.		0.05nm				0.05nm		5nm
光源		氘燈&鹵素?zé)?/span>(internal)				鹵素?zé)?/span>(internal)10000 小時(shí) (MTBF)
材料數(shù)據(jù)庫(kù)		>650內(nèi)建材料數(shù)據(jù)庫(kù)