單面/雙面掩模對準光刻機的相關知識普及

發(fā)布時間：2023-01-10

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單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，非常適合大學和研發(fā)應用。

EVG單面/雙面掩模對準光刻機特征：

1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸。

2、臺式或單獨式帶防振花崗巖臺面。

3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。

4、分步流程指引。

5、遠程技術支持。

6、頂部和底部對準功能。

7、高精度對準。

8、自動楔形補償序列。

9、電動的和程序控制的曝光間隙。

10、支持先進的UV-LED技術。

11、小化系統(tǒng)占地面積和設施要求。

12、多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同語言）。