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什么是光刻機?為什么要使用它?

發(fā)布時間:2022-12-30

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光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān),我們用的手機,電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品,里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個信息社會,各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。


光刻機的技術(shù)原理:

光刻機就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。

這就是光刻機的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件。

光刻機技術(shù)是一種精密的微細加工技術(shù)。常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗光刻技術(shù)蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,然后把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。


在廣義上,光刻機包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個主要方面:
  1、光復(fù)印工藝:經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置,精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上;
  2、刻蝕工藝:利用化學(xué)或物理方法,將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去,從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的,因而光刻工藝總是多次反復(fù)進行。例如,大規(guī)模集成電路要經(jīng)過約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

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