帶你了解光刻機(jī)

       光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機(jī)，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì)，各種各樣的信息流在世界流動(dòng)。而光刻技術(shù)是保證制造承載信息的載體。在社會(huì)上擁有不可替代的作用。

1. 光刻技術(shù)的原理
       光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

這就是光刻的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。
       光刻技術(shù)是一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術(shù)蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。

       在廣義上，光刻包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面：

        1、光復(fù)印工藝：經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上。

        2、刻蝕工藝：利用化學(xué)或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去，從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而光刻工藝總是多次反復(fù)進(jìn)行。例如，大規(guī)模集成電路要經(jīng)過(guò)約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

2. 紫外壓印光刻技術(shù)
       紫外壓印工藝是將單體涂覆的襯底和透明印章裝載到對(duì)準(zhǔn)機(jī)中, 在真空環(huán)境下被固定在各自的卡盤上。當(dāng)襯底和印章的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)完成后, 開始接觸壓印。透過(guò)印章的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型。
       與熱壓印技術(shù)相比, 紫外壓印對(duì)環(huán)境要求更低, 僅在室溫和低壓力下就可進(jìn)行,從而使用該技術(shù)生產(chǎn)能并縮短生產(chǎn)周期, 同時(shí)減小印章磨損。由于工藝過(guò)程的需要, 制作紫外壓印印章要求使用能被紫外線穿過(guò)的材料。