發(fā)布時(shí)間:2024-01-08
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該公司是中國碳化硅(SiC)第三代半導(dǎo)體摻雜技術(shù)研究及器件研發(fā)、設(shè)計(jì)、制成、應(yīng)用、銷售為一體的機(jī)構(gòu)。是致力于大功率半導(dǎo)體芯片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和外延生長、MOSFET、IGBT芯片設(shè)計(jì)與應(yīng)用、第三代半導(dǎo)體功率器件封裝與散熱的倡導(dǎo)者。
Thetametrisis 是從希臘國家科學(xué)研究發(fā)展中心單獨(dú)發(fā)展出來的高科技公司,主要技術(shù)是使用光學(xué)反射光譜分析法去精確量測單層和多層厚度以及折射率,厚度的量測范圍從幾納米到微米級別。
FR-Scanner(370nm-1020nm)是占地面積小的桌面式量測儀器,適用于自動量測晶圓上設(shè)定好不同位置的涂層厚度。FR-Scanner可以快速準(zhǔn)確的量測薄膜特性,諸如厚度、折射率等。帶有真空吸附的wafer stage可以測試不同大小以及形狀的產(chǎn)品。
FR-Scanner 通過旋轉(zhuǎn)晶圓片和以獨(dú)特的速度和精度(半徑和角度)線性移動晶圓片進(jìn)行掃描整個(gè)晶圓片,通過這種方式,可以記錄具有高重復(fù)性的精確反射率數(shù)據(jù),使FR-Scanner成為at-line及on-line測繪晶圓上的涂層或其他基片上涂層的理想工具。
FR-Scanner提供了廣泛的應(yīng)用配置,薄膜薄到幾納米,厚到幾百微米,并配置磚用的軟件用于日常使用。FR-Scanner在準(zhǔn)確性、精度、再現(xiàn)性和長期穩(wěn)定性方面都提供了出色的性能。