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詳細(xì)分析掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的技術(shù)數(shù)據(jù)以及使用特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2023-01-28

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掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)是指通過(guò)開(kāi)啟燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機(jī)器設(shè)備。該儀器可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。
  技術(shù)數(shù)據(jù):
  掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)以其多功能性和可靠性而著稱,在小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總體擁有成本,提供了先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

  該儀器或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對(duì)薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,對(duì)深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對(duì)薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


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產(chǎn)品特點(diǎn):
  1、高清彩色雙顯示屏;
  2、設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性超高;
  3、操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計(jì);
  4、抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計(jì);
  5、可選支持單面對(duì)準(zhǔn)和雙面對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì);
  6、帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;
  7、采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有*對(duì)準(zhǔn)亮度;
  8、采用基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);
  9、具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動(dòng)定位功能;
  10、操作簡(jiǎn)易,具有支持多操作員同臺(tái)使用的友好操作界面;
  11、全新氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì),高jīng準(zhǔn),低磨損,無(wú)需售后維護(hù)的;
  12、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭;雙頭高清全彩物鏡。


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