怎么把光刻膠噴涂到晶圓片或者器件上？

發(fā)布時(shí)間：2020-05-14

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我們都知道，光刻膠加工技術(shù)與圖案化是半導(dǎo)體制造中蕞重復(fù)的步驟。

1. 應(yīng)用介紹

光刻膠處理技術(shù)被廣范用于滿足不同市場(chǎng)的眾多微納米技術(shù)應(yīng)用和產(chǎn)品，例如高級(jí)封裝，MEMS，MOEMS和傳感器，微流體，RF設(shè)備，光子學(xué)等等。所有這些應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)榘雽?dǎo)體器件的設(shè)計(jì)和制造帶來(lái)了新的挑戰(zhàn)。理解這些特殊要求并靈活地相應(yīng)地調(diào)整我們的系統(tǒng)，是EVG帶給市場(chǎng)的獨(dú)特核芯競(jìng)爭(zhēng)力之一。

相關(guān)技術(shù)：旋涂技術(shù)、噴涂技術(shù)

EV Group在光刻技術(shù)上的重要進(jìn)步包括專有的光刻膠涂層技術(shù)，例如OmniSpray，革命性的NanoSpray和NanoFill。這些獨(dú)特的技術(shù)已在EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)，并為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)計(jì)用于支持各種工藝參數(shù)和客戶要求，可以使用多種材料，例如正負(fù)光刻膠，聚酰亞胺，薄層光刻膠的雙面涂層，高粘度光刻膠和邊緣保護(hù)涂層可在EVG100系列上進(jìn)行處理。盡管通常會(huì)低估光刻膠加工對(duì)實(shí)現(xiàn)某些工藝流程的重要性，并且只是將其視為標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的商品，在許多情況下，這是關(guān)鍵的過(guò)程。例如，在高形貌的晶圓上構(gòu)圖，LIGA（光刻，電鑄和成型），臨時(shí)鍵合，納米壓印光刻（NIL）和粘合劑鍵合都依賴于先進(jìn)的涂層能力和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)，并將這些經(jīng)驗(yàn)融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識(shí)來(lái)為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設(shè)備。納米壓印光刻（NIL）和粘合劑粘結(jié)都依賴于先進(jìn)的涂層功能和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)，并將這些經(jīng)驗(yàn)教訓(xùn)融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識(shí)來(lái)為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設(shè)備。納米壓印光刻（NIL）和粘合劑鍵合都依賴于先進(jìn)的涂層功能和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)，并將這些經(jīng)驗(yàn)融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識(shí)來(lái)為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設(shè)備。

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