怎么把光刻膠噴涂到晶圓片或者器件上？

發(fā)布時間：2020-05-14

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我們都知道，光刻膠加工技術與圖案化是半導體制造中蕞重復的步驟。

1. 應用介紹

光刻膠處理技術被廣范用于滿足不同市場的眾多微納米技術應用和產(chǎn)品，例如高級封裝，MEMS，MOEMS和傳感器，微流體，RF設備，光子學等等。所有這些應用領域為半導體器件的設計和制造帶來了新的挑戰(zhàn)。理解這些特殊要求并靈活地相應地調(diào)整我們的系統(tǒng)，是EVG帶給市場的獨特核芯競爭力之一。

相關技術：旋涂技術、噴涂技術

EV Group在光刻技術上的重要進步包括專有的光刻膠涂層技術，例如OmniSpray，革命性的NanoSpray和NanoFill。這些獨特的技術已在EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)中實現(xiàn)，并為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準。設計用于支持各種工藝參數(shù)和客戶要求，可以使用多種材料，例如正負光刻膠，聚酰亞胺，薄層光刻膠的雙面涂層，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層可在EVG100系列上進行處理。盡管通常會低估光刻膠加工對實現(xiàn)某些工藝流程的重要性，并且只是將其視為標準光刻工藝的商品，在許多情況下，這是關鍵的過程。例如，在高形貌的晶圓上構圖，LIGA（光刻，電鑄和成型），臨時鍵合，納米壓印光刻（NIL）和粘合劑鍵合都依賴于先進的涂層能力和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗，并將這些經(jīng)驗融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識來為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設備。納米壓印光刻（NIL）和粘合劑粘結都依賴于先進的涂層功能和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗，并將這些經(jīng)驗教訓融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識來為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設備。納米壓印光刻（NIL）和粘合劑鍵合都依賴于先進的涂層功能和倬越的工藝。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗，并將這些經(jīng)驗融入EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識來為客戶提供支持。與所有EVG處理系統(tǒng)一樣，可以為研發(fā)環(huán)境或大批量生產(chǎn)配置設備。

光刻膠加工結果光刻膠加工結果2