發(fā)布時(shí)間:2021-05-08
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在本研究中,使用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)(* 2)在Si襯底上制造了高質(zhì)量的GaN外延膜,以制造GaN諧振器。提出了應(yīng)變工程以改善時(shí)間性能。通過利用GaN和Si襯底之間的晶格失配和熱失配來實(shí)現(xiàn)應(yīng)變。因此,無需任何應(yīng)變?nèi)コ龑蛹纯芍苯釉赟i上生長(zhǎng)GaN。通過優(yōu)化MOCVD生長(zhǎng)過程中的降溫方法,在GaN上沒有觀察到裂紋,其晶體質(zhì)量與使用超晶格應(yīng)變?nèi)コ龑拥某R?guī)方法所獲得的晶體質(zhì)量相當(dāng)。
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