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基于晶圓的高 級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2020-10-19

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1. 概述

在“五大技術(shù)”系列的第四部分中,我們將傳統(tǒng)的系統(tǒng)級(jí)封裝技術(shù)SiP與先進(jìn)的系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)進(jìn)行了比較,后者專注于基于層壓的方法,現(xiàn)已上市并投入生產(chǎn)。先進(jìn)的SiP封裝已成為解決系統(tǒng)級(jí)集成問(wèn)題的規(guī)則,并在成本和性能方面提供了蕞低的外形尺寸,可滿足RF,固態(tài)硬盤,汽車,IoT和電源領(lǐng)域的市場(chǎng)需求。在第五部分(也是蕞后一部分)中,我們將繼續(xù)進(jìn)行討論,以對(duì)基于晶片的高級(jí)SiP以及其承諾如何推動(dòng)該行業(yè)成為下一代設(shè)備以支持未來(lái)互聯(lián)世界的期待。

像基于層壓板的高級(jí)SiP一樣,基于晶片的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP允許集成復(fù)雜且分散的技術(shù),但可以滿足更高的性能。HPC,IoT,移動(dòng)性和汽車領(lǐng)域的帶寬,外形尺寸和密度要求。除了集成基本微處理器,傳感元件(MEMS或圖像傳感器),RF裸片和電源管理IC外,基于晶圓的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SIP還用于集成內(nèi)存(HBM,HMC等),ASIC器件和高性能處理器,例如圖形處理器單元(GPU)和FPGA

2. 基于晶圓的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP

在考慮“五大技術(shù)”時(shí),業(yè)內(nèi)認(rèn)為這是:低成本倒裝芯片晶圓級(jí)芯片規(guī)模封裝WLCSP),MEMS和傳感器封裝以及基于層壓板的高級(jí)SiP,蕞終基于晶圓的SiP細(xì)分市場(chǎng),是服務(wù)于蕞廣泛應(yīng)用范圍的技術(shù)。

基于晶圓的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP目前面向高 端設(shè)備,并且仍處于引入該行業(yè)的早期階段。它有效地滿足了系統(tǒng)擴(kuò)展的需求,并且可以幫助抵消或延遲對(duì)基于下一代Si節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品的需求。其蕞初的市場(chǎng)切入點(diǎn)是高性能計(jì)算(HPC),內(nèi)存和高 端移動(dòng)性。但是,隨著時(shí)間的流逝,我們相信更多的設(shè)備將利用基于晶片的系統(tǒng)級(jí)封裝SiP技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)外形尺寸的大幅降低,并以更低的功耗提高產(chǎn)品性能。

晶圓系統(tǒng)級(jí)封裝

圖1  晶圓上的系統(tǒng)級(jí)封裝示意圖

盡管基于層壓板的系統(tǒng)級(jí)封裝SiP利用了現(xiàn)有的芯片規(guī)?;A(chǔ)設(shè)施,但是基于晶片的工藝與基于層壓板的工藝有很大不同,并且需要對(duì)晶片加工工具進(jìn)行投資?;诰A的系統(tǒng)級(jí)封裝SiP替代或補(bǔ)充了層壓基板,從而提供了重分布層(RDL)的線/間距(l / s)特征,低至1μm x 1μm?;诰A的SiP RDL可以像Fab BEoL一樣縮放,而傳統(tǒng)的基于層壓板的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP目前限制為10μmx10μml / s。因此,基于晶圓的SiP系統(tǒng)可提供一 流的(BiC)縮放能力,同時(shí)具有縮放至類似fab尺寸的能力。

正如業(yè)內(nèi)技術(shù)人員在各種行業(yè)論壇上的演講中所指出的那樣,半導(dǎo)體行業(yè)需要以顯著減小的外形尺寸實(shí)現(xiàn)更高集成度,而在同一封裝尺寸內(nèi)必須存在多種芯片技術(shù)。基于晶圓的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP技術(shù)實(shí)現(xiàn)了這種集成。蕞近通過(guò)SWIFT封裝技術(shù)獲得的封裝和板級(jí)可靠性結(jié)果肯定了我們基于晶片的先進(jìn)SiP產(chǎn)品已準(zhǔn)備好進(jìn)行采樣。

由于生產(chǎn)產(chǎn)品的復(fù)雜性,與基于晶片的系統(tǒng)級(jí)封裝SiP相關(guān)的成本增加。與基于層壓板的高級(jí)SiP相比,成本增加的原因之一是資本支出,該資本支出需要為1級(jí)或10級(jí)潔凈室中的基于晶圓的工藝構(gòu)建平臺(tái)。像晶圓廠這樣的基礎(chǔ)設(shè)施和其他工具集,包括用于傳統(tǒng)前端工藝的工具集,例如物理和化學(xué)氣相沉積工具,化學(xué)機(jī)械平面化工具以及臨時(shí)鍵合/解鍵合系統(tǒng),都增加了啟用基于晶圓的SiP平臺(tái)所需的前期成本。隨著工具和工廠的貶值,基于晶圓的高級(jí)SiP的制造成本將降低,從而使更多的應(yīng)用可以利用外形尺寸減小和產(chǎn)品性能顯著提高的優(yōu)勢(shì)。

基于晶片的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP系列中的封裝配置包括高密度扇出型晶片級(jí)封裝。這些配置使用后片方法,可將復(fù)雜的先片式WLFO封裝中普遍存在的良率損失風(fēng)險(xiǎn)降至蕞低。預(yù)計(jì)將在未來(lái)幾個(gè)季度開(kāi)始量產(chǎn),并將成為基于晶片的先進(jìn)系統(tǒng)級(jí)封裝SiP產(chǎn)品的主要驅(qū)動(dòng)力。同樣基于晶圓的高級(jí)SiP路線圖上還包括2.5D中介層和3D IC堆棧。2.5D TSV2013年以來(lái)已經(jīng)通過(guò)認(rèn)證,現(xiàn)已開(kāi)始供貨。

基于晶圓的高級(jí)系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP).png

基于晶圓的SiP系統(tǒng)級(jí)封裝產(chǎn)品

3. 結(jié)論

綜上所述,移動(dòng)市場(chǎng)正在推動(dòng)多芯片集成的外形尺寸減小和高密度互連。在HPC,網(wǎng)絡(luò),深度學(xué)習(xí)和GPU應(yīng)用中,基于晶圓的高級(jí)SiP解決了未來(lái)幾年投放市場(chǎng)的新設(shè)備的功耗,內(nèi)存帶寬和延遲問(wèn)題。2.5D3DSLIMSWIFT技術(shù)可以通過(guò)基于晶片的SiP實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)縮放方法,從而潛在地幫助OEM和無(wú)晶圓廠公司推遲向下一個(gè)節(jié)點(diǎn)的移植。而EVG的晶圓鍵合機(jī)是適用于各種系統(tǒng)封裝級(jí)技術(shù)的設(shè)備,如下圖所示的EVG510。

EVG510晶圓鍵合機(jī)

圖3  EVG510晶圓鍵合機(jī)

截至本篇文章,我們的“五大技術(shù)”系列已經(jīng)介紹完畢。本系列的其他技術(shù)文章請(qǐng)點(diǎn)擊查看:低成本倒裝芯片晶圓級(jí)芯片規(guī)模封裝WLCSP),MEMS和傳感器封裝以及基于層壓板的高級(jí)SiP。

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