EV Group與INKRON合作開(kāi)發(fā)下一代光學(xué)器件的高折射率材料和納米壓印光刻技術(shù)

       EV集團(tuán)（EVG）是面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶片鍵合和光刻設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商，今天宣布與高功率制造商Inkron合作和低折射率（RI）涂層材料，為開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)高質(zhì)量衍射光學(xué)元件（DOE）結(jié)構(gòu)提供優(yōu)化的工藝并匹配高RI材料。這些DOE結(jié)構(gòu)包括用于增強(qiáng)/混合/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / MR / VR）設(shè)備的波導(dǎo)，以及用于汽車(chē)，消費(fèi)電子和商業(yè)應(yīng)用中的用于高級(jí)光學(xué)傳感的分束器和擴(kuò)散器。

       這種伙伴關(guān)系正在EVG的NILPhotonics內(nèi)開(kāi)展®在其總部圣弗洛里安，奧地利能力中心。EVG的NILPhotonics能力中心為整個(gè)NIL供應(yīng)鏈中的客戶和合作伙伴提供了一個(gè)開(kāi)放式創(chuàng)新孵化器，以協(xié)作縮短創(chuàng)新光子設(shè)備和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期并縮短產(chǎn)品上市時(shí)間。作為該協(xié)議的一部分，Inkron還購(gòu)買(mǎi)了EVG ® 7200 NIL系統(tǒng)用在了自己的研發(fā)機(jī)構(gòu)，加快新型光學(xué)材料的開(kāi)發(fā)和認(rèn)證。該EVG 7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL ®先進(jìn)的技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，可實(shí)現(xiàn)大面積小至30 nm的微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的大規(guī)模生產(chǎn)，并具有無(wú)與倫比的低力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的印章分離。

       Markus Wimplinger說(shuō)：“整個(gè)商業(yè)和消費(fèi)市場(chǎng)對(duì)基于晶片的光學(xué)組件和傳感器的需求正以驚人的速度增長(zhǎng)，從而推動(dòng)了對(duì)經(jīng)過(guò)優(yōu)化以滿足這些市場(chǎng)所需的性能要求和產(chǎn)量的材料和工藝的需求?！?EV Group公司技術(shù)開(kāi)發(fā)和IP總監(jiān)?！?Inkron在光學(xué)材料方面擁有廣泛的專業(yè)知識(shí)，并且是高和低RI涂層的領(lǐng)先制造商之一，這使該公司成為與我們的NILPhotonics能力中心合作的理想合作伙伴。像這樣的合作使EVG能夠進(jìn)一步探索和擴(kuò)展我們的NIL技術(shù)的應(yīng)用和功能，從而確保為下一代光學(xué)設(shè)備和最終產(chǎn)品提供可用于生產(chǎn)的解決方案?！?/span>

       光學(xué)元件和組件的材料特性對(duì)封裝的光學(xué)設(shè)備的整體性能和形狀因素有重大影響。例如，更高的折射率（高達(dá)1.9x或更高）可實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的設(shè)計(jì)，以改善光的輸出耦合，這可以顯著增加波導(dǎo)的視場(chǎng)，從而在AR / VR頭戴式耳機(jī)中提供更身臨其境的體驗(yàn)。更高的RI材料還可以提供更高的光密度，并使用于分束（例如用于面部識(shí)別傳感器）的衍射光學(xué)器件效率更高，從而支持光學(xué)器件的進(jìn)一步小型化。高RI材料的其他優(yōu)化可以改善膜的透明度，并減少霧度和散射，從而提供更好的對(duì)比度，而改善的樹(shù)脂穩(wěn)定性可以滿足更嚴(yán)格的熱要求，

       針對(duì)NIL處理優(yōu)化高RI材料有助于確保其在批量生產(chǎn)中的實(shí)施。NIL是制造光學(xué)元件的一種行之有效的方法，因?yàn)樗軌蛟诟呷萘肯绿峁┚哂谐杀拘б娴募{米級(jí)特征圖案，同時(shí)對(duì)特征尺寸，形狀和復(fù)雜性不敏感。

Inkron首席執(zhí)行官Juha Rantala表示：“我們很高興與EV Group合作，加速引入新的，優(yōu)化的和創(chuàng)新的光學(xué)材料技術(shù)，這些技術(shù)有助于解決客戶的關(guān)鍵性能路線圖?！?nbsp;“我們的納米級(jí)可壓印高折射率材料和相匹配的間隙填充涂層，再加上EVG領(lǐng)先的NIL系統(tǒng)，可提供光學(xué)制造商所需的關(guān)鍵晶圓級(jí)解決方案，以快速擴(kuò)大其最新產(chǎn)品的產(chǎn)量。”

晶圓級(jí)光學(xué)的應(yīng)用和解決方案

       EVG的NIL系統(tǒng)構(gòu)成了該公司W(wǎng)LO制造解決方案的關(guān)鍵組成部分，該解決方案為移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品提供了許多新穎的光學(xué)傳感設(shè)備。關(guān)鍵示例包括3D感應(yīng)，飛行時(shí)間，結(jié)構(gòu)光，生物識(shí)別，面部識(shí)別，虹膜掃描，光學(xué)指紋，光譜感應(yīng)，環(huán)境感應(yīng)和紅外成像。其他應(yīng)用包括汽車(chē)照明，地毯，平視顯示器，車(chē)內(nèi)感應(yīng)和LiDAR以及用于內(nèi)窺鏡相機(jī)，眼科應(yīng)用和外科手術(shù)機(jī)器人的醫(yī)學(xué)成像。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics能力中心提供支持。有關(guān)EVG的WLO解決方案的更多信息，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)：鍵合機(jī)光刻機(jī)設(shè)備。

關(guān)于墨客隆

       長(zhǎng)瀨集團(tuán)的成員Inkron是高折射率和低折射率（RI）涂層材料的開(kāi)發(fā)商和制造商。這些行業(yè)領(lǐng)先的光學(xué)涂料覆蓋了VIS / NIR范圍內(nèi)創(chuàng)紀(jì)錄的RI范圍，介于1.1和2.0之間。高RI材料針對(duì)納米壓印光刻（NIL）工藝進(jìn)行了優(yōu)化。目標(biāo)應(yīng)用包括DOE（衍射光學(xué)元件），例如XR設(shè)備的波導(dǎo)，光學(xué)擴(kuò)散器，LIDAR和其他光子應(yīng)用。高折射率材料得到了Inkron匹配的RI范圍為1.1-1.4的低折射率材料的補(bǔ)充。低RI材料的典型應(yīng)用包括抗反射涂層（可見(jiàn)光和NIR范圍），波導(dǎo)包層和粘合劑層。內(nèi)部合成樹(shù)脂和配方具有光學(xué)透明性，具有熱穩(wěn)定性，并已準(zhǔn)備就緒，可用于苛刻的應(yīng)用。Inkron提供的其他產(chǎn)品包括導(dǎo)熱粘合劑，密封材料和一系列可印刷油墨。